过程光谱仪 / PS-532

过程拉曼光谱仪

532 nm 激发的主机与光纤探头组合,面向过程取样位置的拉曼光谱采集。

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产品概览 / PS-532

产品概览

系统由集成激光源、滤光与光谱采集单元的主机、外置拉曼光纤探头及采集软件组成。激发光经光纤送至样品,收集到的散射光返回主机完成分光与探测,使主机和取样位置可以分开布置。532 nm 配置的标称拉曼范围为 90–2750 cm⁻¹,采用制冷背照式 CCD 采集。探头前端、工作距离和机械安装按样品及装置确定,适用于反应过程观察和远置采样;涉及温度、压力或密封时需确定对应探头配置。

可配置系列。规格与供货范围以最终方案和合同为准。

配置要点

  • 532 nm 激发主机与匹配的拉曼光纤探头成套配置。
  • 光纤传输便于分离主机位置与样品测量位置。
  • 适合优先关注低荧光材料拉曼信号的测量。
  • 制冷背照式 CCD 与 USB 接口用于光谱采集。
  • 探头前端与安装接口可按实际采样条件匹配。
应用方向

低荧光材料的反应过程观察;分离主机与采样位置的拉曼测量;实验装置配套光谱采集。

SPECIFICATIONS / PS-532

产品参数

参数规格
激发波长532 nm
激光器标称输出100 mW
拉曼位移范围90–2750 cm⁻¹
光谱分辨率(100 μm 狭缝)≤10 cm⁻¹
光栅2400 线/mm
光谱仪光路交叉式 Czerny–Turner,焦距约 120 mm,f/3.5
狭缝100 μm 标配,50 μm 可选
探测器背照式 CCD,1024 × 128 像素,单级热电制冷至 −10 ℃
采集接口USB 2.0
探头接口与工作距离按项目测量环境确认

DETAILS / PS-532

技术说明

选型需明确样品形态、目标拉曼峰、荧光背景、采样位置及装置接口,再确定探头光学和机械配置。标称激光功率为光源参数,样品处实际功率由光纤与探头传输效率决定。过程型的取样几何由探头确定,不沿用显微系统的物镜与光斑参数;具体工况的耐温、耐压、密封及连续运行条件按项目验证。

光谱采集链参数采用现有装配配置;探头耐温、耐压、密封和连续运行条件需按具体工况验证。显微机型的光斑及物镜参数不直接适用。

一起确认适合的配置。

告诉我们样品、测量目标与使用环境。

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